如果要对相同工艺节点下进行性能评估，可以尝试将一个厂商的GDS文件转换到另一个厂商，不过要注意的是不同厂商（比如SMIC和TSMC）之间的DRC规则，尽量采用两个DRC中的约束较为紧张的厂商进行设计，以免转换到另外一家厂商时出现DRC违例。其次是需要采用相同的层数/顶层金属厚度/RDL层厚度等。
以下采用Cadence Virtuoso IC61进行GDS文件的格式转换。转换方向为TSMC 65nm GDS --> SMIC 65nm GDS。
需要准备的文件有：
（1）TSMC 65nm PDK（包括tsmcN65_layermap，文件命名可能不同）；
（2）SMIC 65nm PDK（包括smicN65_layermap，文件命名可能不同）；
（3）TSMC 65nm GDS文件（假设为Synopsys ICC或Cadence Innovus导出的数字集成电路版图tsmcN65_icc_innovus.gds）；
（4）手动编写从TSMC到SMIC的层映射文件tsmcN65_smicN65_layermap（第3部分讲解）。
1. Virtuoso导入PDK并新建Library
1、导入TSMC/SMIC 65nm PDK，库文件为tsmcN65和smicN65。
2、分别新建一个library，命名为mylib_tsmcN65和mylib_smicN65，然后分别Attach 每个自建库到对应的tsmcN65和smicN65 technology library上。
2. Virtuoso导入GDS文件
这一步导入Synopsys ICC或Cadence Innovus生成的数字集成电路版图tsmcN65_icc_innovus.gds。
1、在CIW界面点击File -> Import -> Stream。
2、导入设置：
（1）选择导入的gds版图文件tsmcN65_icc_innovus.gds；
（2）选择导入的库mylib_tsmcN65；
（3）选择Attach的Tech LibrarytsmcN65，然后系统会自动选择tsmcN65_layermap。
点击Translate进行转译，将GDS文件转换为layout。
3、查看顶层模块的layout：
3. 编写库切换的层映射文件
由于Virtuoso是采用Layer Stream Number识别层的，因此主要针对Layer Stream Number进行修改。
Layermap文件中，一共分为四列：
（1）layer name
（2）layer purpose
（3）layer stream number
（4）datatype stream number
打开两个工艺的layermap文件进行对比，以下图中，左侧为TSMC，右侧为SMIC：
# tsmcN65_layermap
OD drawing 6 0
OD dummy 6 1
OD drawing2 6 2
OD drain 6 3
OD pin 6 6
OD test1 6 11
OD test2 6 12
OD test3 6 13PO drawing 17 0
PO dummy 17 1
PO drawing2 17 2
PO test1 17 11
PO test2 17 12
PO test3 17 13
PO rule1 17 51
# smicN65_layermap
GT drawing 30 0
AA drawing 10 0
可以发现（1）层名和（3）层掩膜ID在不同工艺下存在差异，比如：
| TSMC Layer Name | TSMC Layer ID | SMIC Layer Name | SMIC Layer ID |
|---|---|---|---|
| OD | 6 | AA | 10 |
| PO | 17 | GT | 30 |
| … | … | … | … |
我们需要修改层掩膜ID，以提供tsmcN65顶层layout导出为中间状态gds时，层掩膜ID的初步映射（虽然层名依然tsmcN65中的，但是后续操作Virtuoso能自动识别层掩膜ID并映射到smicN65）。
因此复制tsmcN65_layermap中用到的层到新建的layermap文件tsmcN65_smicN65_layermap中。
然后修改第三列的值为SMIC中对应的层掩膜ID。
例如：
# tsmcN65_smicN65_layermap
OD drawing 10 0
OD dummy 10 1
OD drawing2 10 2
OD drain 10 3
OD pin 10 6
OD test1 10 11
OD test2 10 12
OD test3 10 13PO drawing 30 0
PO dummy 30 1
PO drawing2 30 2
PO test1 30 11
PO test2 30 12
PO test3 30 13
PO rule1 30 51
4. 从virtuoso layout导出映射中间态的GDS
这一步从tsmcN65工艺下导出smicN65工艺下掩膜ID的中间态GDS文件。
1、点击File->Export->Stream。
2、修改导出设置：
（1）填写导出gds的名称为tsmcN65_smicN65_mapping.gds
（2）选择Library：为刚才导入的gds所在的库mylib_tsmcN65。
（3）设置顶层文件TOP_ASIC。
（4）Technology Library：不要选择任何技术库。
（5）Layer Map：选择上一步编写的层映射文件tsmcN65_smicN65_layermap。
点击Translate，导出GDS文件。
5. Virtuoso导入映射中间态GDS
这一步导入包含smicN65层掩膜ID的中间态GDS文件并由软件自动映射到smicN65工艺上。
1、在CIW界面点击File -> Import -> Stream。
2、导入设置：
（1）选择导入的gds版图文件tsmcN65_smicN65_mapping.gds；
（2）选择导入的库mylib_smicN65；
（3）选择Attach的Tech LibrarysmicN65，然后系统会自动选择smicN65_layermap。
点击Translate进行转译，将中间态GDS文件转换为smicN65工艺库下的layout。
3、打开顶层模块的layout，查看是否能正确显示各个层：
至此，从TSMC 65nm到SMIC 65nm的GDS转换完成。
6. （可选）导出smicN65工艺下的版图文件
这一步导出完整的smicN65工艺下的GDS文件。
1、点击File->Export->Stream。
2、修改导出设置：
（1）填写导出gds的名称为smicN65_virtuosoOut.gds
（2）选择Library：为刚才导入的gds所在的库mylib_smicN65。
（3）设置顶层文件TOP_ASIC。
（4）Technology Library选择smicN65。
（5）Layer Map：选择smicN65_layermap。
点击Translate，导出GDS文件。
3、当然，担心出问题的话，还可以把smicN65_virtuosoOut.gds文件导入进来看看层数是否正确。
参考文章：
不同工艺转换 https://bbs.eetop.cn/thread-768170-1-1.html
(出处: EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网))
